APA (7th ed.) Citation

Pinacho Gómez, R. (1999). Caracterización del dañado eléctrico residual tras procesos de implantación iónica y RTA en Silicio y Fosfuro de Indio. Secretariado de Publicaciones e Intercambio Científico, Universidad.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Pinacho Gómez, Ruth. Caracterización Del Dañado Eléctrico Residual Tras Procesos De Implantación Iónica Y RTA En Silicio Y Fosfuro De Indio. Valladolid: Secretariado de Publicaciones e Intercambio Científico, Universidad, 1999.

MLA (9th ed.) Citation

Pinacho Gómez, Ruth. Caracterización Del Dañado Eléctrico Residual Tras Procesos De Implantación Iónica Y RTA En Silicio Y Fosfuro De Indio. Secretariado de Publicaciones e Intercambio Científico, Universidad, 1999.