Caracterización en estructuras MOS del dañado eléctrico generado por procesos de grabado iónico reactivo [Microforma]
| Autor principal: | |
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| Formato: | Libro |
| Idioma: | Castellano |
| Publicado: |
Valladolid :
Universidad de Valladolid, Secretariado de Publicaciones e Intercambio Científico
1995
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| Colección: | Tesis doctorales (Universidad de Valladolid)
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| Materias: | |
| Ver en Universidad de Navarra: | https://unika.unav.edu/discovery/fulldisplay?docid=alma991004294419708016&context=L&vid=34UNAV_INST:VU1&search_scope=34UNAV_TODO&tab=34UNAV_TODO&lang=es |
| Notas: | Tesis-Universidad de Valladolid |
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| Descripción Física: | 3 microfichas : negativo ; 11x15 cm + 1 folleto (7 p. ; 16 cm) |
| ISBN: | 9788477625162 |
