Contribución al estudio de los centros profundos en dispositivos de potencia de silicio por técnicas termo-capacitivas
| Main Author: | |
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| Corporate Author: | |
| Format: | Thesis |
| Language: | Castellano |
| Published: |
Valladolid :
Universitat
[s.a.]
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| Subjects: | |
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| Physical Description: | VII, 119 f. : il. ; 28 cm |
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| Bibliography: | Incluye referencias bibliográficas |
