Field guide to optical lithography

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Mack, Chris A. (-)
Formato: Libro
Idioma:Inglés
Publicado: Washington. USA. : SPIE Press 2006.
Colección:SPIE field guides ; FG06
Materias:
Ver en Universidad de Navarra:https://unika.unav.edu/discovery/fulldisplay?docid=alma991001873269708016&context=L&vid=34UNAV_INST:VU1&search_scope=34UNAV_TODO&tab=34UNAV_TODO&lang=es
Descripción
Descripción Física:122 p. ; 21 cm
ISBN:9780819462077