Computational lithography

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Ma, Xu, 1983- (-)
Otros Autores:	Arce, Gonzalo R.
Formato:	Libro electrónico
Idioma:	Inglés
Publicado:	Oxford : Wiley-Blackwell 2010.
Colección:	Wiley series in pure and applied optics.
Materias:	Microlithography > Mathematics. Integrated circuits > Design and construction > Mathematics. Photolithography > Mathematics. Semiconductors > Etching > Mathematics. Resolution (Optics) Electronic books.
Acceso en línea:	https://recursos.uloyola.es/login?url=https://accedys.uloyola.es:8443/accedix0/sitios/ebook.php?id=178332
Ver en Universidad Loyola - Universidad Loyola Granada:	https://colectivo.uloyola.es/Record/ELB178332

Solicitar por préstamo interbibliotecario: Correo

Descripción
Descripción Física:	xv, 226 p. : ill
Bibliografía:	Includes bibliographical references and index.

Ejemplares similares